2026年5月25日,据韩媒ETNews报导,三星电子公布使用单位多层键合(CMB) 技能,乐成研发全世界首个900层超高重叠3D NAND闪存原型,并已经验证存储单位正常事情特征,标记着三星于高端存储技能范畴实现跨代式领先。
传统3D NAND采用单次持续刻蚀重叠工艺,受晶圆翘曲、层间瞄准偏差等物理限定,难以冲破500层门坎。三星立异的CMB技能,先自力制造两片450层3D NAND晶圆,再经由过程高精度键合工艺合二为一,直接将重叠层数翻倍至900层,打破传统工艺的物理瓶颈。
为保障原型良率与不变性,三星同步霸占多项要害技能:采用上部卡盘(Upper Chuck) 设计解决高层重叠晶圆翘曲问题;经由过程新型套刻校订技能将键合瞄准偏差节制于纳米级;优化位线(BL)与字线(WL)布局,于晋升存储密度的同时,降低芯片功耗与尺寸。
从市场格式看,当前量产市场最高层数为SK海力士的321层4D NAND,三星规划2026年下半年量产400层以上第十代V-NAND(V10)。这次900层原型的落地,使三星于研发轫与竞品拉开显著差距,为AI办事器、数据中央SSD和高端智能手机等高密存储需求场景奠基技能基础。
业内阐发指出,900层3D NAND可于不异芯片尺寸下实现近3倍在当前主流产物的存储容量,同时能效比年夜幅晋升,能有用降低AI数据中央的机柜空间与电力成本。三星明确提出2030年实现1000层NAND的持久方针,CMB技能将成为其告竣方针的焦点路径。
今朝该产物仍处在试验室原型阶段,还没有宣布详细量产时间表。但这一冲破已经重塑全世界闪存技能竞争格式,三星依附“量产+研发”双线并进计谋,进一步巩固于高端存储市场的主导职位地方,同时为应答全世界存储厂商的技能追逐修筑高壁垒。
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