·于HBM封装内集成冷却元件(ICE),优化高热集中区域的散热路径·热阻降低30%以上,确保产物于高温、高负载情况下的不变运行特征·采用经市场充实验证的MR-MUF,以高度设计兼容性,降低客户导入门坎
2026年5月26日,SK海力士公布,公司发布“iHBM”技能。该技能经由过程于HBM封装内集成一体化冷却元件“ICE*”,显著降低产物运行时的发烧量。
陪同AI算力需求连续激增,HBM不停经由过程增长重叠层数、晋升运行速率来实现机能的迭代进级,同时也带来发烧量爬升的难题。是以,有用节制毗连HBM与GPU的D2D PHY*区域的功率密度**,正成为下一代HBM技能竞争力的焦点。
iHBM技能的特色于在从布局层面底子性解决上述散热难题。传统HBM依靠热量经由焦点芯片(Core Die)向别传导的间接散热方式。iHBM的焦点于在,直接于热量最为集中的D2D PHY区域内嵌入热控元件(ICE),构建专用热量排出通道(Heat Path)。相较传统方案,热阻(Thermal Resistance)降低30%以上,同时确保产物于高温、高负载情况下的不变运行特征。
该技能于量产可行性方面也具有显著上风。产物采用经市场充实验证的进步前辈MR-MUF*晶圆级封装(WLP**)工艺,可实现不变范围化量产。此外,该技能与客户现有体系级封装(SiP淫乱)情况具有高度设计兼容性,客户无需举行年夜范围设计改动,便可直接部署,从而有用降低了现实导入门坎。
SK海力士规划将iHBM技能运用在HBM5等下一代产物,以满意高机能计较(HPC)、AI数据中央等超高度集成、高带宽运用场景的严苛散热管控需求,进一步晋升总体体系的不变性与运行效率。
SK海力士封装开发担任李康旭副社长暗示:“iHBM联合存储器设计与进步前辈封装技能,是实现产物最低发烧的最优方案。公司前瞻结构,连续提供AI情况下客户所需的焦点价值,进一步巩固自身于面向AI的存储器范畴的带领职位地方。”
* ICE(Integrated Cooling Elements):使用绝缘、高导热性的硅基质料,于HBM封装内部分外构建散热路径的冷却元件
* D2D PHY(Die-to-Die Physical Layer):实现HBM基础芯片与AI高速芯片之间超高速数据传输的物理互联通道
** 功率密度(Power Density):指单元面积孕育发生的热量数值,是决议装备或者体系的散热效率与利用寿命的焦点指标
* 批量回流模制底部填充(MR-MUF, Mass Reflow-Molded Underfill): 于重叠半导体芯片后,为了掩护芯片间的电路,于此中填充液体掩护质料,使其固化的工艺
** 晶圆级封装(WLP, Wafer-Level Package):于切割晶圆前,一次性举行封装与测试晶圆的技能,可显著削减芯片尺寸并晋升电气特征
淫乱 体系级封装(SiP,System in Package):将具备差别功效的多类芯片垂直或者横向集成在单一封装体内,实现一体化协同运作的封装技能
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